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AJA磁控濺射系統 Magnetron Sputtering System

  • 經濟型臺式磁控濺射系統

    經濟型臺式磁控濺射系統

    經濟型臺式濺射系統

     

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  • ATC ORION系列 磁控濺射系統

    ATC ORION系列 磁控濺射系統

    腔體尺寸:10", 12"和14" Ø | 高真空和超高真空結構 | 濺射靶尺寸:1.5", 2" 和 3" | 樣品臺尺寸:6" Ø | 基片溫度范圍:LN2-1000°C | 預真空室/Load lock |基片片盒cassettes | 自動傳樣 | 計算機控制 | 定制化系統 | 遠遠優于臺式系統  

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  • ATC FLAGSHIP旗艦系列 磁控濺射系統

    ATC FLAGSHIP旗艦系列  磁控濺射系統

    腔室尺寸:18" - 34" | 高真空和超高真空結構 |濺射靶尺寸:1" - 12"  | 原位偏轉濺射靶 | 基片最大尺寸8"  | 基片cassette | 內置掩膜交換系統 | 預真空室load lock | 自動傳樣 | 計算機控制 | 定制化系統

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  • ATC-B系列 批量鍍膜系統

    ATC-B系列 批量鍍膜系統

    圓柱型或柜式腔體 | 選配load-lock&cassette | 圓形,三角形或線性濺射靶 | 集成液壓升降或鉸鏈腔門 | 單層,多層膜或共沉積 | 按應用配置

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  • AJA磁控濺射靶 超高真空&高真空

    AJA磁控濺射靶 超高真空&高真空

    工作于平衡磁控狀態  | 最大化靶材利用率 | 進行高或低濺射速率  | 工作于多種非平衡磁控態 | 進行均勻性或者有意為之的不均勻性沉積 | 到達基片表面的高或低電子能量 | 濺射較厚的磁性靶材  | 方便更換或拆卸磁性靶材

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